WHATMAN氧化鋁膜是一種重要的功能薄膜材料，由于具有較高的介電常數(shù)、高熱導率、抗輻照損傷能力強、抗堿離子滲透能力強以及在很寬的波長范圍內透明等諸多優(yōu)異的物理、化學性能，使其在微電子器件、電致發(fā)光器件、光波導器件以及抗腐蝕涂層等眾多領域有著廣泛的應用。
WHATMAN氧化鋁膜的應用：
1、HPLC流動相過濾和脫氣。
2、超純溶劑的制備。
3、比重分析和脂類擠壓。
4、電子顯微鏡掃描研究。
5、通過落射熒光顯微鏡分析細菌。
WHATMAN氧化鋁膜的使用注意事項：
1、產(chǎn)品生產(chǎn)加工過程中，薄膜不能有大于2%伸張率，否則氧化鋁層有可能龜裂而影響阻隔性。
2、擠出復合時，溫度不能太高及擠出膜厚度不能超過15μm，否則氧化鋁層有可能龜裂而影響阻隔性。
3、內容物勿過酸，如pH<4時，有可能腐蝕氧化鋁層。
4、因無保護涂層，氧化鋁層應避免與有槽溝的輥軸接觸，否則氧化鋁層有可能損傷而影響阻隔性，軟的輥面會減少氧化鋁層的損傷。復合時應選用合適的粘合劑，否則會影響剝離強度，軟質粘合劑有利于剝離強度。
5、僅為用戶的實驗或使用提供一些參考性建議，由于用戶的使用設備和加工條件不同，產(chǎn)品用途和要求不同，產(chǎn)品的應用應當充分驗證。
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